真空除气储存柜的技术参数
1. 腔室内尺寸：①②号宽1050x高200x深700mm ③号宽1050x高380x深700mm；
2. 极限真空度：2×10-5Pa；
3. 加热烘烤：200-800℃烘烤除气功能，±3℃；
4. 整体结构型式：泵箱一体，三个腔室；
5. 观察窗：每一个箱室均配一个Φ100观察窗，材质为石英玻璃，透光好；
6. 控制方式：一室一泵配置，自动保持真空，可手动独立控制工作；
7. 异常报警功能：具有自动监控各部分的运行状态功能，异常诊断报警，故障诊断，并停止设备运行的功能。
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
① 极限真空度高；
② 控温精度高；
③ 更高的升温速率；
④ 更加智能化；
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡；
⑥ 降低产品的氧化性；
⑦ 提高工艺室的洁净度。
真空除气储存柜
本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可独立工作。
加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。
京公网安备 11011402012516号
在线客服
400-188-1915 / 185-1082-6675
bjkcvac@sina.com
